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2006-10-26

: C3直前アップデート

| 03:44 | : C3直前アップデート - 出張所 を含むブックマーク はてなブックマーク - : C3直前アップデート - 出張所 : C3直前アップデート - 出張所 のブックマークコメント

PvPキャラがインベントリからフルカスタマイズ可能になるようです。これでPvPキャラビルドごとの再作成が不要になりました。低req装備以外では、RPキャラと同格なものが作成可能になりました。

  • PvP装備の片手杖や左手装備もフルカスタマイズ可能になった
  • すべての要求特性の武器が使用可能になった
  • 既存特性だったパーツは「刻印(Inscription)」で、さらにワンドの半減パーツは「ワンドの布(Wand Wrapping)」になった
  • 両手スタッフエネルギー5増加(条件つき)の刻印がある
    • 両手スタッフは任意スペル再使用半減20%が基本として付加され、任意スペル詠唱半減が刻印になった
  • ワンドの布は、スペルリチャージ半減10%かそのアイテム特性のスペルリチャージ半減20%の二つ
    • いままでのドミネーション要求で、インスピ半減なワンドは作成不可能になった
  • Wのストレングス13パーツはvs元素攻撃防御+20
    • すべての装備は基本が物理+20ではあるが、ダークダメージには防御80になるのだろうか
  • Wの転倒3秒、弱体化短縮は記章になり、どこでもつけられるようになった
  • 防具刻印で、強化、スタンス、アイテム持ち条件はすべての職で利用可能になった

  • PvP装備の防具も、スキンと特性が分離された。特性を付加するパーツは「記章(Insignia)」である
  • 頭部にも体力増加特性の記章を付加できる

さらにC3で可能になるパーツが見えている

  • 弓や片手近接で使える、スペルの詠唱半減と再使用半減の刻印
  • 片手ワンドの防御パターンや詠唱半減10%など、緑武器と同等のものが作成可能にする刻印
  • 左手アイテムに各状態異常時間20%減少と各種防御アップの刻印
  • 状態異常二つ組で持続時間20%減少の4ルーン
  • 各職ごとに新たな特性を着ける防具刻印

そのほか